GEOMETRIA, SIMETRÍA Y ACTIVACIÓN ACÚSTICA PARA EL CONTROL NANOESTRUCTURAL DE CAPAS DELGADAS CON FUNCIONALIDAD QUÍMICA
Abstract
En las últimas décadas los métodos físicos de vacío y plasma se han consolidado como instrumento central para el procesado superficial de recubrimientos duros, capas ópticas o estructuras apiladas en dispositivos electrónicos. Una característica básica de las capas delgadas desarrolladas para estas aplicaciones clásicas es su alta compacidad, una cualidad directamente vinculada con las características “bottom-up” de los procesos de crecimiento implicados. En los últimos años, estos mismos métodos se han empezado a utilizar para el desarrollo de capas nanoestructuradas y porosas con un gran potencial para aplicaciones químicas como electrodos, sensores, superficies de mojabilidad controlada o capas catalíticas. En una primera parte de esta presentación se discutirán algunos principios básicos que, jugando con la geometría, la simetría y otros parámetros ajustables durante los procesos de crecimiento, permiten controlar la nanoestructura y maximizar la porosidad de capas delgadas preparadas mediante técnicas de evaporación y plasmas. Un segundo aspecto versará sobre la aplicación de tales desarrollos en algunos campos tecnológicos donde se requiere en uso de materiales de última generación con la funcionalidad química requerida para el desarrollo de sensores fotónicos y electroquímicos, ánodos para celdas de combustible o electrolizadores y superficies superhidrofóbicas y bactericidas. Finalmente, se mostrarán los últimos trabajos del laboratorio mostrando como la combinación de métodos de activación basados en ondas acústicas y procesos de plasmas proporciona un nivel de control adicional de la nanoestructura de las capas delgadas preparadas mediante estos procedimientos.
Ponente
Agustín R. González-Elipe
Organización
Laboratorio de Nanotecnología de superficies y plasma. Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (CSIC-Universidad de Sevilla).
Avda. Américo Vespucio 49. 41092 Sevilla.
Agustín Rodríguez González-Elipe es Profesor de Investigación “ad honorem” del CSIC en el Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMSE, centro mixto CSIC-Universidad de Sevilla). Ha sido director de dicho centro y coordinador del Área de Ciencia y Tecnología de Materiales del CSIC. Ha sido responsable del laboratorio de “Nanotecnología en Superficies y Plasmas” (http://sincaf.icmse.csic.es/) en el ICMSE, llevando a cabo su actividad investigadora en el desarrollo de láminas delgadas, la tecnología de plasma y la aplicación de métodos avanzados de caracterización de materiales. En este ámbito de investigación multidisciplinar ha abordado tanto problemas de tipo fundamental como otros aplicados a diversos temas y problemas tecnológicos (materiales fotónicos y recubrimientos ópticos, celdas fotovoltaicas, electrolisis, procesos de plasma-catálisis, mojabilidad de superficies y otras aplicaciones funcionales). Ha publicado varios cientos de trabajos científicos y algunos artículos de revisión y libros. En el aspecto más aplicado ha colaborado activamente con la industria en el desarrollo de un gran número de proyectos industriales, así como desarrollado numerosas patentes de aplicación. Su actividad formativa se ha plasmado en la dirección más de dos decenas de tesis doctorales. Ha sido investigador y profesor visitante en diversas universidades y centros de investigación en Europa y Japón, habiendo impartido un gran número de conferencias y ponencias invitadas en diversos centros y congresos internacionales, actuando también como miembro de comités organizadores y chairman de los mismos. Ha sido miembro de numerosos comités científicos de evaluación y asesoramiento de instituciones nacionales e internacionales. Es miembro del comité editorial y editor de varias revistas científicas. Su trabajo ha sido reconocido por la Academia Sevillana de Ciencias, la Fundación Domingo Martínez y la Sociedad Española de Materiales.